Intel anuncia litografia 18A-P com desempenho superior

A Intel avança em sua estratégia de semicondutores com o desenvolvimento da litografia 18A-P, uma evolução do processo 18A, já utilizado nos processadores Panther Lake e na linha Core Ultra 300 para notebooks. Esta nova tecnologia promete um aumento de 9% no desempenho sob o mesmo consumo de energia, com a produção em massa prevista para ocorrer em um prazo de um a dois anos.

Atualmente, a tecnologia encontra-se na fase de produção de risco, um estágio de baixo volume destinado a validar linhas de fabricação, taxas de defeitos e a variabilidade do silício. O processo 18A-P destaca-se pela retrocompatibilidade, permitindo que designers migrem projetos do padrão 18A sem redesenhar os chips, oferecendo a opção de reduzir o consumo de energia em até 18% mantendo o desempenho atual.

Os ganhos são viabilizados por novos designs de transistores, como o modelo W3P com Power Boost, que reduz a resistência parasitária. Além disso, melhorias na tecnologia PowerVia reduziram a resistência térmica entre 20% e 40%, enquanto a nova tensão ULVTLL otimiza o equilíbrio entre potência e eficiência. Enquanto o 18A atende os processadores Xeon 6+ e Panther Lake, a litografia 18A-P será integrada aos chips Nova Lake, esperados para o final de 2026.